El problema es que, al igual que China, no tiene acceso a los equipos litogrficos avanzados que incorporan tecnologas de origen estadounidense. Y conseguirlos en mercados paralelos es esencialmente imposible. Adems, el desarrollo de sus propios nodos litogrficos requiere inversiones multimillonarias, y, lo que es si cabe ms difcil de sortear, un enorme esfuerzo en I+D. De hecho, Nikon y Canon se retiraron de la pugna que mantenan con ASML durante la puesta a punto de los equipos de litografa de ultravioleta extremo (UVE) debido a su descomunal complejidad y coste.